68亿长单,硅电容挑战MLCC

2026-06-15 16:52:001

硅电容不会全面替代MLCC,但正在争夺AI芯片封装内、距离裸片最近的高频去耦位置。三星的大额合同证明这条路线开始进入规模采购,A股映射却仍处在产品导入和工艺验证阶段。

5月20日,三星电机宣布与一家全球大型企业签订1.5万亿韩元硅电容供应合同,供货期为2027年至2028年。按当前汇率粗略折算,合同约68亿元人民币。6月14日,韩国行业媒体进一步披露,三星把DRAM制造经验迁移到硅电容,并计划使用300毫米晶圆提高效率。

三星电机官网2026年5月20日合同公告

大单落地

两年68亿元,意味着客户已把它写进产品路线图

若把合同均匀摊到24个月,对应月均约2.8亿元人民币、年均约34亿元。实际收入节奏仍取决于交付安排,但这个量级已经明显不同于送样和小批量。订单没有披露客户、单价和颗数,因此不能倒推出单颗价值量,更不能直接推算全球份额。

三星预计硅电容市场未来五年年均增速超过18%,并点名村田、台积电等企业正在扩张。元件厂、晶圆代工厂和存储工艺企业同时进入,说明竞争焦点已从单纯材料配方,延伸到晶圆制造与先进封装。需要注意的是,公告与正式供货之间仍隔着半年以上,2026年的核心任务仍是扩产、良率和客户验证。

图1:1.5万亿韩元合同的量级测算

封装近场

AI芯片为什么需要另一种电容

AI芯片功耗与瞬时电流持续上升,电容离芯片越远,走线带来的寄生电感越明显。三星称硅电容经过晶圆减薄可做到100微米以下,可放在封装底部、顶部,甚至嵌入封装基板,更靠近GPU、CPU和高带宽内存,为高频供电波动提供快速补偿。

其工艺思路与DRAM深沟槽电容相似:在硅片内部刻出高深宽比沟槽,再沉积介质层和电极,用三维表面积换取更高容量密度。它卖的不只是电容,而是深硅刻蚀、薄膜沉积、晶圆减薄和封装协同组成的一套半导体工艺。

不是替代

MLCC仍然守住绝大多数位置

“挑战MLCC”最容易被误读成全面替代。MLCC供应链成熟、规格广、成本低,仍适合主板和模组上的海量通用位置。硅电容成本更高、制造更复杂,它首先进入的是空间极窄、频率极高、离芯片极近的位置。更现实的格局是硅电容解决最难的一小块,MLCC覆盖绝大多数位置。


图2:硅电容与MLCC争夺的是不同安装位置

A股边界

有直接产品,也有设备映射,但订单证据尚未出现

赛微电子披露,瑞典产线正把3D硅电容从工艺开发推向验证、试产和量产,不过公司正在出售该产线控制权,未来收益归属需要重估。鸿远电子2025年已推出硅电容系列,6月又表示硅基电容与MLCC具备业务协同,但没有披露AI封装客户、批量收入或量产时间表。

设备端更接近工艺卡点。北方华创的12英寸深硅刻蚀机明确覆盖深槽隔离和电容刻蚀;华虹公司则表示正在评估硅电容客户需求与技术条件。这些证据只能证明技术位置相邻,不能证明已经进入三星或海外AI客户供应链。


图3:A股硅电容产业链的证据强弱

验证信号

后面只盯三件事

第一,三星是否披露客户平台、产能和收入贡献;第二,鸿远、赛微的硅电容是否出现批量收入或明确客户认证;第三,国内晶圆厂和设备公司是否获得深槽电容的真实订单。只有产品、客户和财务贡献同时出现,硅电容才会从新概念变成A股可验证的产业线。

68亿元大单最重要的意义,不是宣布MLCC时代结束,而是说明AI先进封装正在把一部分传统板级元件搬进封装内部。谁能把存储工艺变成稳定量产的电容,谁才真正拿到了下一张入场券。

主要资料来源:三星电机1.5万亿韩元硅电容合同公告、三星电机硅电容产品页、韩国The Elec:DRAM工艺迁移与300毫米晶圆、赛微电子2025年年度报告、鸿远电子2025年年度报告、鸿远电子上证e互动回复、北方华创12英寸深硅刻蚀设备

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